氯化氫氣體為強刺激性，不燃氣體，溶水后有強烈腐蝕性。產品包裝于高壓專用鋼瓶中，處于液態。專用鋼瓶為鋼質無縫氣瓶，瓶內拋光處理。瓶閥為抗腐蝕不銹鋼隔膜閥。鋼瓶設計壓力為12.5Mpa,工作壓力約5-6Mpa。
    氯化氫氧化平衡的計算和分析,提出將反應-脫水耦合技術應用于氯化氫氧化過程中,研究了反應-脫水耦合的模擬工藝.結果表明,在氯化氫連續氧化的過程中,增加脫水過程能有效提高氯化氫的反應轉化率.考察了在氧氣不過量情況下的多步脫水循環過程,結果顯示提高二次氧化反應的溫度可明顯提高氯化氫的轉化率,在HCl/O2摩爾比為8:1的條件下經過多步脫水循環反應,氯化氫的總轉化率可以達到49.3%,反應混合氣中氧氣的體積含量低于0.2%.該混合氣可直接用于有機氯化過程.
    化學級氯化氫產品生產裝置于1993年投產，經山東省科委鑒定，主要用于醫藥中間體、農藥及精細化學品制造業。電子級(VLSI)氯化氫產品生產裝置于2003年投產，經北京市科委鑒定，主要用于半導體器件生產中單晶硅片的氣相拋光、外延基座腐蝕及硬質合金制造。5.0N電子級(VLSI)氯化氫產品分別經國家標準物質研究中心和信息產業部專用材料質量監督檢驗中心抽樣檢驗，純度大于99.999%，總雜質含量小于5ppm，產品性能指標與國 際品牌相當。5.0N電子級(VLSI)氯化氫產品經國內外多家半導體重點企業連續大量在單晶硅片氣相拋光和外延基座腐蝕工藝中廣泛使用，制得的器件產品質量與國際知名品牌相當。超純氯化氫產品生產裝置于2005年投產，目前處于試銷階段，主要用作標準物質和科學研究。